將舉辦微區(qū)掃描電化學(xué)新技術(shù)講座

2011-07-28

微區(qū)掃描電化學(xué)技術(shù)發(fā)展迅猛,在腐蝕和電沉積科學(xué)中的表面反映過(guò)程基礎(chǔ)研究，酶穩(wěn)定性研究，生物大分子的電化學(xué)反應(yīng)特性，化學(xué)傳感器，點(diǎn)蝕孔蝕，涂層完整性和均勻性，涂層下或逾金屬界面間的局部腐蝕，緩蝕劑性能等相關(guān)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,倍受科技工作者的關(guān)注。
    應(yīng)亞太地區(qū)(日本、韓國(guó)、臺(tái)灣等)有關(guān)研究機(jī)構(gòu)和大學(xué)的邀請(qǐng),美國(guó)阿美特克公司普林斯頓應(yīng)用研究（PAR） 長(zhǎng)期從事微區(qū)掃描技術(shù)應(yīng)用和開發(fā)的專家Dr.Rob Sides 將順訪中國(guó),舉辦技術(shù)講座,并有掃描電化學(xué)工作站M370（SVP，SKP，SECM，LEIS技術(shù)四合一）設(shè)備作現(xiàn)場(chǎng)演示。屆時(shí),將邀請(qǐng)國(guó)內(nèi)業(yè)界知名教授進(jìn)行相關(guān)應(yīng)用的講座。