Xcalibur E系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配備Mo或Cu光源，適合進(jìn)行常規(guī)小分子晶體結(jié)構(gòu)分析和專業(yè)晶體學(xué)研究，并可根據(jù)需要將系統(tǒng)升級(jí)為雙光源系統(tǒng)，或配備更大的檢測(cè)器以拓展研究需求。
Xcalibur E系統(tǒng)提供增強(qiáng)型Mo或Cu光源、最高靈敏度的Eos CCD檢測(cè)器、光源和CCD水冷裝置、四圓kappa測(cè)角儀、晶體樣品放大和錄像裝置、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)，以及系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)處理軟件。系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、運(yùn)行穩(wěn)定，用戶可專注于科學(xué)研究，無需在儀器維護(hù)上花費(fèi)寶貴的時(shí)間和精力Xcalibur E 是一套完整的X射線衍射系統(tǒng)，用于收集小分子晶體的高分辨衍射數(shù)據(jù)，是進(jìn)行常規(guī)晶體結(jié)構(gòu)分析、專業(yè)的晶體學(xué)和電子云密度研究工作的必備工具。
Xcalibur E系統(tǒng)的設(shè)計(jì)還非常方便升級(jí)，用戶可根據(jù)需要將系統(tǒng)升級(jí)到Mo和Cu雙光源系統(tǒng)，將Eos檢測(cè)器升級(jí)成更大的檢測(cè)器以方便開展蛋白質(zhì)晶體結(jié)構(gòu)研究。
技術(shù)參數(shù)：
1. Eos CCD 檢測(cè)器
2. 增強(qiáng)型Mo 或 Cu光源
3. 四圓 kappa 測(cè)角儀
主要特點(diǎn)：
1. 檢測(cè)器：采用級(jí)別最高、缺陷率最低的CCD芯片，具有靈敏度最高、動(dòng)態(tài)范圍最大和速度最快等特點(diǎn)。適合于測(cè)量要求苛刻的小分子晶體的衍射數(shù)據(jù)。
2. 光源：（1）Enhance光源配有單導(dǎo)管光學(xué)部件 (Monocapillary Optic) ，大大提高了作用在晶體樣品上的X射線強(qiáng)度。（2）專利設(shè)計(jì)的Enhance光源，采用一體化光路設(shè)計(jì)，最大限度地減少了現(xiàn)場(chǎng)對(duì)光和更換X光管后光路校正的需求。
3. 測(cè)角儀： 4個(gè)角度都可以自由轉(zhuǎn)動(dòng)，是兼顧常規(guī)晶體結(jié)構(gòu)分析和專業(yè)晶體學(xué)研究的唯一選擇。
4. 系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)分析軟件：CrysAlispro是一個(gè)功能強(qiáng)大的全自動(dòng)軟件，實(shí)現(xiàn)對(duì)儀器的控制、數(shù)據(jù)采集和處理。軟件免費(fèi)更新，可以多地點(diǎn)、多用戶使用。
CCD 檢測(cè)器
2. 增強(qiáng)型Mo光源和超強(qiáng)型Cu光源
3. 四圓 kappa 測(cè)角儀
主要特點(diǎn)：
1. 檢測(cè)器：采用級(jí)別最高、缺陷率最低的CCD芯片，是高靈敏度和大有效探測(cè)面積的最佳組合，適合于收集蛋白質(zhì)和小分子晶體的衍射數(shù)據(jù)。
2. 光源：（1）計(jì)算機(jī)控制切換Mo和Cu光源；（2）增強(qiáng)型X射線源產(chǎn)生均一和穩(wěn)定的Mo X射線。（3）結(jié)合多層膜光學(xué)器件，Enhance Ultra Cu光源提供的衍射強(qiáng)度相當(dāng)于帶光學(xué)器件的5kW轉(zhuǎn)靶，滿足小分子弱衍射晶體和蛋白質(zhì)樣品分析要求。（4）一體化光路設(shè)計(jì)最大限度地減少了現(xiàn)場(chǎng)對(duì)光和更換X光管后光路校正的需求。
3. 測(cè)角儀： 4個(gè)角度都可以自由轉(zhuǎn)動(dòng)，是兼顧常規(guī)晶體結(jié)構(gòu)分析和專業(yè)晶體學(xué)研究的唯一選擇。
4. 系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)分析軟件：CrysAlispro是一個(gè)功能強(qiáng)大的全自動(dòng)軟件，實(shí)現(xiàn)對(duì)儀器的控制、數(shù)據(jù)采集和處理。軟件免費(fèi)更新，可以多地點(diǎn)、多用戶使用。