Hitachi日立 SU70日立新型分析型熱場發(fā)射掃描電鏡
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SU70日立新型分析型熱場發(fā)射掃描電鏡
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| 產(chǎn)品介紹： |
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SU70日立新型分析型熱場發(fā)射掃描電鏡
為了滿足在同一臺儀器上進行綜合分析(需要大探針電流)和超高分辨率觀察的需求，日立開發(fā)了SU-70。它采用成熟的超高分辨率半內(nèi)透鏡技術(shù)和熱場發(fā)射電子槍，為探索納米世界打開了一扇新的大門。
特點：
1. 100nA的大探針電流
新開發(fā)的肖特基電子槍保證100nA的大探針電流
2. 通用的分析型樣品室
預(yù)留了多種接口，可以安裝以下附件進行
分析：EDX,WDX,EBSP,STEM,BSE, CL,超低
溫臺，樣品室CCD
3. 分析模式(FF模式)
觀察磁性樣品及EBSP、WDS分析
4. 超高分辨率 1.0nm/15kV，1.6nm/1kV(減速模式)，超高分辨率的獲得利用了日立
已被檢驗的半內(nèi)透鏡技術(shù)。
5. 超級ExB技術(shù)用于控制SE/BSE信號檢測，實現(xiàn)消除放電現(xiàn)象及信號混合
6. 電子束減速技術(shù)保證了超低電壓的高分辨成像，用于淺表面觀察
| 二次電子圖象分辨率 |
| 1.0nm(15KV.WD=4.0mm) |
| 1.6nm(1KV.WD=1.5mm,減速模式) |
| 2.5nm(1KV.WD=1.5mm) |
| 放大倍數(shù) |
| 低放大倍數(shù)模式 20-2,000x |
| 高放大倍數(shù)模式 100-800,000x |
| 電子光學(xué) |
| 電子槍 ZrO/W 肖特基電子槍 |
| 電流 1pA-100nA |
| 加速電壓 0.5-30KV(標準模式) |
| 著陸電壓 0.1-2.0KV(減速模式) |
| 透鏡系統(tǒng) 3級電磁線圈系統(tǒng) |
| 物鏡光闌 4孔光闌,真空外選擇和細調(diào) |
| 樣品臺 |
| 樣品臺控制 5軸馬達控制 |
| 移動范圍 |
| X 0-110mm |
| Y 0-110mm |
| z 1.5-40mm |
| T -5O-+700 |
| R 360O |
| 樣品尺寸 直徑150mm(標準) |
| (最大) 直徑200mm(可選) |
| 探測器 |
| 二次電子探測器 |
| 背散射電子探測器(可選) |
| STEM探測器(可選) |
| 法拉第杯(可選) |
| X射線能譜儀(可選) |
| X射線波譜儀(可選) |
| EBSP探測器(可選) |
| 陰極熒光探測器(可選) |
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