此產(chǎn)品廣泛應用于：納米材料、納米科技、半導體、薄膜材料、薄膜沉積以及航空航天領(lǐng)域。
PICOSUN公司是一個國際化的設備制造商，在全球有銷售和服務機構(gòu).我們開發(fā)和制造原子層沉積反應器用于微米和納米技術(shù)應用。PICOSUN為客戶提供用戶友好，可靠及多產(chǎn)的ALD工藝工具，提供獨一無二的從研發(fā)到生產(chǎn)的工業(yè)放大。PICOSUN基地在芬蘭的espoo，美國總部在Detroit。SUNALE型ALD工藝工具被用于歐州、美國及亞洲頂級的科學機構(gòu)、公司。
PICOSUN擁有30多年在芬蘭ALD反應器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。Tuomo Suntola博士，于1974年發(fā)明了ALD技術(shù)，是PICOSUN董事會的成員。我們的首席技術(shù)官SVEN LINDFORS從1975年開始連續(xù)的設計ALD系統(tǒng)。綜合起來講，PICOSUN擁有了200多年的ALD經(jīng)驗并貢獻了100多項ALD專利。我們悠久的歷史和廣泛的背景使PICOSUN成為ALD技術(shù)最佳的合作伙伴
SUNALETM型P系列技術(shù)特征
基本特征：
晶片尺寸：4”，100 mm
晶片數(shù)：25-50片
工藝溫度：至500 ℃
反應腔體積：大型
反應腔材料：316不銹鋼，Ti，Ni，Al
前驅(qū)體源：2-4液體 / 氣
基片裝載設備：氣動升降機
大小：
尺寸：27.6*41.3*36.4”, 70*105*92.5 cm (W*H*D)
重量：200 kg
工況：
電源：100-240 V，50/60 Hz，1-或3-相，3.7 KW
真空泵：30-80 m3/h
載氣：99.999 % N2 / Ar, min 2slm
壓縮空氣：4-5.5 bar過壓
冷卻水：對于反應器無要求
排氣：為真空泵及源櫥柜配備