化學分析

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oxford 牛津PED脈沖電子束沉積鍍膜系統(tǒng)

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使命是為研究新型先進薄膜材料和器件的科學家和工程師提供服務。我們通過以下手段來實現(xiàn)此目標
oxford 牛津PLD脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)

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種用途廣泛的、用于薄膜沉積和合成納米結(jié)構(gòu)和納米粒子的方法。 PLD是一種復雜材料沉積的創(chuàng)新方法
oxford 牛津HD20/HD25R/HD25/ HD60/HD150氣體射頻裂解原子源

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高效率裂解氮氣, 氧氣和氫氣,適用于氮化物,氧化物的生成,氮的攙雜（GaInNAs, GaN, ZnO, ultra-thin Al2O3 films and high-k dielectric oxides）和氫原子清洗
oxford 牛津TC50/TC4X50氣體熱裂解源

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裂解多種氣體如氫氣；氧氣；氫化物；氯氣；氨氣和碳氫化合物，用于氧化物，氮化物等薄膜的生長，基片表面零損傷氫清洗及原子氫、氯的反應刻蝕
oxford 牛津EGN1/EGN4/EGCO4/H-PEB4小型電子束蒸發(fā)源

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應用：單元，多元及多元組合（多至四種材料）共蒸發(fā)多種材料獲得超純薄膜沉積
oxford 牛津IM150離子束拋光真空系統(tǒng)

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應用：領域包括樣片的離子拋光、減薄、清洗等
oxford 牛津ORG50V 閥控有機材料蒸發(fā)束源爐

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專利在線閥控制和阻隔熱散*蒸發(fā)速流量寬動態(tài)范圍快速可調(diào)（100：1）；
oxford 牛津DC25/DC150離子譜儀

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用于離子輔助沉積；離子束濺射沉積；離子束剝離與刻蝕和樣片表面修飾
oxford 牛津RFK30離子譜儀射頻(300W)裂解蒸發(fā)物質(zhì)

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應用：射頻(300W)裂解蒸發(fā)物質(zhì)并可多種氣體(Ar;Ne;N2; H2 etc.)混合激發(fā)形成等離子體以實現(xiàn)多元素化合物薄膜生長的生長或摻雜
oxford 牛津Lion50離子譜儀

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應用于離子譜儀，粒子的檢測和校準，襯底清洗，反應離子刻蝕和材料表面修飾
Oxford牛津微焦斑X射線源

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UltraBright是高功耗微焦源產(chǎn)品，專為那些輻射流密度應用而設計。
Oxford牛津Nova600微焦斑X射線源

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隨著微焦X射線源元件不斷地進步，Nova600的出現(xiàn)是高功耗小微焦X射線源的重大的突破。
Oxford牛津80Kv一體化X射線源

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80kV 系列是一體化的X光管和集成電源，它集合了1500系列焦點為50微米X光管的特性。
Oxford牛津75W50kV1-5MA-OEM 高壓電源

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75W型提供可調(diào)節(jié)高壓電源，輸出電壓為50千伏，其燈絲電源提供可調(diào)整電流--5.5伏下0.3到3.5安培之間。
Oxford牛津Apogee封裝X光管50W電源和電線

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在75 瓦特功率下輸出電壓 4Kv 到 50kV 電壓和電流控制手動：10 匝遞變電阻電位計
Oxford牛津Spellman X光管高壓電源

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Spellman系列的X光管電源能很好地控制高壓電源的輸出，最高電壓為130kV。
Oxford牛津5000系列X光管75W電源和電纜

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在75瓦特功率下輸出電壓 4Kv 到 50kV 電壓和發(fā)射電流從零到額定輸出
Oxford牛津6000系列60千伏X光管60W電源和電纜

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在60瓦特功率下輸出電壓 4Kv 到 60kV 電壓和發(fā)射電流從零到額定輸出
Oxford牛津Neptune 水冷X光管100W電源和電纜

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在100瓦特功率下輸出電壓 4Kv 到 50kV 電壓和發(fā)射電流從零到額定輸出
Oxford牛津封閉式X光管—通用型

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5000系列為側(cè)窗口X光管。廣泛應用于許多工業(yè)領域，5000系列的電子槍封裝于鉛內(nèi)襯不銹鋼管中，并可以有選擇性地配有安裝法蘭。