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  • oxford 牛津PED脈沖電子束沉積鍍膜系統(tǒng)

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    使命是為研究新型先進薄膜材料和器件的科學家和工程師提供服務。我們通過以下手段來實現此目標

  • oxford 牛津PLD脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)

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    種用途廣泛的、用于薄膜沉積和合成納米結構和納米粒子的方法。 PLD是一種復雜材料沉積的創(chuàng)新方法

  • oxford 牛津HD20/HD25R/HD25/ HD60/HD150氣體射頻裂解原子源

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    高效率裂解氮氣, 氧氣 和氫氣,適用于氮化物,氧化物的生成,氮的攙雜(GaInNAs, GaN, ZnO, ultra-thin Al2O3 films and high-k dielectric oxides)和氫原子清洗

  • oxford 牛津TC50/TC4X50氣體熱裂解源

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    裂解多種氣體如氫氣;氧氣;氫化物;氯氣;氨氣和碳氫化合物,用于氧化物,氮化物等薄膜的生長,基片表面零損傷氫清洗及原子氫、氯的反應刻蝕

  • oxford 牛津EGN1/EGN4/EGCO4/H-PEB4小型電子束蒸發(fā)源

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    應用:單元,多元及多元組合(多至四種材料)共蒸發(fā)多種材料獲得超純薄膜沉積

  • oxford 牛津IM150離子束拋光真空系統(tǒng)

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    應用:領域包括樣片的離子拋光、減薄、清洗等

  • oxford 牛津ORG50V 閥控有機材料蒸發(fā)束源爐

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    專利在線閥控制和阻隔熱散*蒸發(fā)速流量寬動態(tài)范圍快速可調(100:1);

  • oxford 牛津DC25/DC150離子譜儀

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    用于離子輔助沉積;離子束濺射沉積;離子束剝離與刻蝕 和樣片表面修飾

  • oxford 牛津RFK30離子譜儀射頻(300W)裂解蒸發(fā)物質

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    應用:射頻(300W)裂解蒸發(fā)物質并可多種氣體(Ar;Ne;N2; H2 etc.)混合激發(fā)形成等離子體以實現多元素化合物薄膜生長的生長或摻雜

  • oxford 牛津Lion50離子譜儀

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    應用于離子譜儀,粒子的檢測和校準,襯底清洗,反應離子刻蝕和材料表面修飾

  • Oxford牛津 CMI 200系列CMI 243膜厚儀

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    CMI 243是一款專門為測量磁性金屬基材上的鋅、鎳、鉻、鎘等鍍層厚度而設計的便攜式膜厚儀。獨特的渦電流測試方法使測量更精確。高端配置的測量探頭對細小的零件也可以精確測量。它具有X射線熒光的測量精度,同時也避免了庫侖法對被測工件帶來的破壞。CMI 243在設計上更加合理、可靠、實用。

  • Oxford牛津微焦斑X射線源

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    UltraBright是高功耗微焦源產品,專為那些輻射流密度應用而設計。

  • Oxford牛津Nova600微焦斑X射線源

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    隨著微焦X射線源元件不斷地進步,Nova600的出現是高功耗小微焦X射線源的重大的突破。

  • Oxford牛津80Kv一體化X射線源

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    80kV 系列是一體化的X光管和集成電源,它集合了1500系列焦點為50微米X光管的特性。

  • Oxford牛津75W50kV1-5MA-OEM 高壓電源

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    75W型提供可調節(jié)高壓電源,輸出電壓為50千伏,其燈絲電源提供可調整電流--5.5伏下0.3到3.5安培之間。

  • Oxford牛津Apogee封裝X光管50W電源和電線

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    在75 瓦特功率下輸出電壓 4Kv 到 50kV 電壓和電流控制 手動:10 匝遞變電阻電位計

  • Oxford牛津Spellman X光管高壓電源

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    Spellman系列的X光管電源能很好地控制高壓電源的輸出,最高電壓為130kV。

  • Oxford牛津5000系列X光管75W電源和電纜

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    在75瓦特功率下輸出電壓 4Kv 到 50kV 電壓和發(fā)射電流從零到額定輸出

  • Oxford牛津6000系列60千伏X光管60W電源和電纜

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    在60瓦特功率下輸出電壓 4Kv 到 60kV 電壓和發(fā)射電流從零到額定輸出

  • Oxford牛津Neptune 水冷X光管100W電源和電纜

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    在100瓦特功率下輸出電壓 4Kv 到 50kV 電壓和發(fā)射電流從零到額定輸出